介紹： 該項目為地上21層，地下部分5層，框架剪力墻結構，筏板基礎，基礎埋深為-21m（相對標高），擬建建筑物南側與XX電子城地下室的北側相連。本工程施工包括基坑土方、護坡、降水。 槽底標高低于場區內兩層地下水的水位標高，將水位降至槽底最深處0.5m以下，其中上層滯水和層間潛水需全部疏干，才能保證基坑的正常施工。 槽底標高低于場區內兩層地下水的水位標高，將水位降至槽底最深處0.5m以下，其中上層滯水和層間潛水需全部疏干，才能保證基坑的正常施工。